聯發科第四屆智在家鄉數位社會創新競賽,自 3 月以來收到各種來自各地的投件。近日,因台灣疫情嚴峻,更發現許多民間單位針對目前生活與社會痛點提供創意,試圖貢獻一己之力,為家鄉帶來改變。
疫情下本屆聯發科智在家鄉創新競賽,參賽更具焦解決社會痛點 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 14 日 15:50 | 分類 IC 設計 , 新創 , 晶片 |
多年在財經媒體的工作資歷,深入理解電子與科技產業的發展過程與趨勢,亦曾經在電子媒體製作相關財經節目,為觀眾剖析當前最即時的財經資訊與新聞。

ASML 第二代 EUV 曝光機開發傳瓶頸,神隊友救援力拚原時程問世 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2021 年 06 月 10 日 14:00 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 | edit |
極紫外光曝光機(EUV)目前是先進半導體製程,不論 DRAM 或晶圓代工生產提升效能的關鍵。荷蘭商艾司摩爾(ASML)是全球唯一量產 EUV 曝光機的廠商,台積電、三星、英特爾先進製程都依賴 EUV 曝光機生產。現階段每台曝光機單價將近 1.5 億美元,但 ASML 的 EUV 曝光機目前出貨都是光源波長 13.5 奈米左右的第一代產品,物鏡 NA 數孔徑是 0.33,據 ASML 表示,第二代 EUV 曝光機已進入開發階段。
