根據外資高盛的最新報告表示,中國在半導體製造關鍵環節的曝光技術研發上,至少落後國際同業 20 年的時間。
高盛:中國曝光機研發停在 65 奈米,落後世界大廠 20 年 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 09 月 02 日 9:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 |
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